产品系列
- ZK-0100 反渗透阻垢剂
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- ZK-150 反渗透阻垢剂
- ZK-200 反渗透阻垢剂
- ZK-220 反渗透阻垢剂
- ZK-650 反渗透混凝剂
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- ZK-261 反渗透碱性清洗剂
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- ZK-682 循环水缓蚀阻垢剂
- ZK-650 循环水杀菌灭藻剂
- ZK-651 循环水杀菌灭藻剂
- ZK-653 循环水杀菌灭藻剂
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- ZK-611 循环水清洗剂
- ZK-612 循环水清洗除油剂
- ZK-932 循环水消泡剂
芳烃催化超临界水氧化处理过程
摘要:芳烃催化超临界水氧化处理过程
苯酚、苯、1,3-二氯苯等在用V205/Al203, Mn02/Ce02催化剂的CSCWO过程中,氧化为C02的选择性是非常高的。
通过V205/Al2 03中的晶格氧的参与和Mn02/Ce02上吸附氧的参与,都分别强化了羟基取代反应。这样,通过所提出的反应机理,可以解释芳烃化合物暴露于SCWO环境中催化氧化路径、产品分布、催化剂稳定性。例如,V205中晶格氧能高度移动,同时,吸附在催化剂上的芳烃化合物可能被可离解出的氢所包围,由此生成OH表面物种,OH物种进入芳烃化合物分子以及发生开环反应,生成低相对分子质量醇、酸和C02。醇和酸同时吸附在催化剂活性中心上,直到生成C02。实验结果证实V205参与了反应。在这些实验中,反应物转化率有所增加,部分氧化产物数量有所减少,C02产率有所增加。不过,水通常作为羟基吸附在催化剂上,V205催化剂中晶格氧的高移动性和空穴使其易于与吸附在催化剂上的羟基相互作用,并生成钒的水合物,导致催化剂失活。
Mn02代表另一种情况,在其表面上的吸附氧参与反应,而移动性甚差的晶格氧会完整保留。Mn02催化剂稳定性得以维持的原因在于它能抑制水、氧和氯离子的攻击。在这种情况下,此类催化剂表面在进一步反应前必须能再生(脱附中间产物和再吸附氧)。可见,在Mri02上的催化反应将包括几个吸附和脱附过程,方能得到完全氧化的产物。在某些情况下,由于停留时间较短,反应流出物种会残存一些部分氧化的产物。